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1. 光譜干涉膜厚儀

該薄膜厚度計(jì)利用了光的干涉原理。當(dāng)光入射到被測(cè)物體上時(shí)，它會(huì)在薄膜的正面和背面反射。這兩束反射光之間存在相位差，該相位差的大小取決于薄膜的厚度。當(dāng)兩束光以相同相位重疊時(shí)，它們會(huì)發(fā)生相長(zhǎng)干涉；當(dāng)兩束光以相反相位重疊時(shí)，它們會(huì)發(fā)生相消干涉。因此，通過(guò)測(cè)量這種干涉差，就可以測(cè)量厚度。

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2.紅外膜厚儀

該膜厚計(jì)利用了被測(cè)物體對(duì)紅外光的吸收特性。當(dāng)紅外光照射到被測(cè)物體上時(shí)，根據(jù)被測(cè)物體的材質(zhì)和厚度，特定波長(zhǎng)的紅外光會(huì)被吸收。利用這一特性，根據(jù)透射光或反射光的分光光譜來(lái)測(cè)量膜厚。如果預(yù)先測(cè)量被測(cè)材料的吸收率與膜厚之間的關(guān)系，就可以計(jì)算出被測(cè)物體的膜厚。

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3.電磁涂層測(cè)厚儀

這是一種利用磁通密度變化的涂層測(cè)厚儀。該測(cè)量方法適用于測(cè)量對(duì)象形成于磁性金屬表面的情況，利用磁鐵單獨(dú)靠近金屬時(shí)與磁鐵靠近放置在金屬上的測(cè)量對(duì)象時(shí)磁通密度的差異。但是，這種方法僅適用于測(cè)量對(duì)象與金屬接觸，而非金屬本身的情況。

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4.渦流膜厚儀

渦流涂層測(cè)厚儀利用線圈產(chǎn)生的磁通量變化來(lái)測(cè)量物體的厚度。通電線圈周?chē)鷷?huì)產(chǎn)生磁通量，當(dāng)線圈靠近物體時(shí)，磁通量會(huì)根據(jù)物體的厚度而變化。通過(guò)檢測(cè)這種磁通量的變化來(lái)測(cè)量物體的厚度。

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5.超聲波涂層測(cè)厚儀

超聲波膜厚計(jì)利用超聲波的反射原理。當(dāng)超聲波從被測(cè)物體表面發(fā)射時(shí)，它會(huì)穿過(guò)物體內(nèi)部，并在背面反射。根據(jù)反射所需的時(shí)間來(lái)測(cè)量厚度。

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例如，在測(cè)量玻璃等透明薄膜的厚度時(shí)，會(huì)使用利用寬帶光的光譜干涉型膜厚計(jì)，或利用紅外光的紅外膜厚計(jì)。另一方面，這些膜厚計(jì)不能用于金屬等不透光的材料。

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測(cè)量金屬鍍膜薄層時(shí)，通常使用利用磁通變化的電磁式膜厚計(jì)或利用渦電流的渦流式膜厚計(jì)。此外，當(dāng)難以接觸測(cè)量對(duì)象時(shí)，也會(huì)使用超聲波膜厚計(jì)等非接觸式膜厚計(jì)。