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1.光譜干涉式膜厚計(jì)

這是利用光干涉的膜厚計(jì)。當(dāng)光線進(jìn)入待測(cè)物體時(shí)，會(huì)在薄膜的正面和背面發(fā)生反射。這兩個(gè)反射光之間存在相移，并且該相移的發(fā)生取決于薄膜的厚度。當(dāng)波同相位重疊時(shí)，它們會(huì)相互增強(qiáng)，而當(dāng)它們以相反相位重疊時(shí)，它們會(huì)相互減弱，因此可以通過(guò)測(cè)量這種干涉差來(lái)測(cè)量厚度。

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2、紅外膜厚儀

這是利用紅外線被測(cè)量對(duì)象物吸收的原理的膜厚計(jì)。當(dāng)用紅外線照射待測(cè)物體時(shí)，根據(jù)待測(cè)物體的材料和厚度，特定波長(zhǎng)的紅外線被吸收。該特性用于根據(jù)通過(guò)劃分透射光或反射光獲得的光譜來(lái)測(cè)量薄膜厚度。通過(guò)預(yù)先測(cè)量被測(cè)材料的吸收率與膜厚的關(guān)系，可以計(jì)算出被測(cè)材料的膜厚。

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3、電磁膜厚計(jì)

這是利用磁通密度變化的膜厚計(jì)。當(dāng)測(cè)量目標(biāo)形成在磁性金屬表面上時(shí)，使用該測(cè)量方法，并且磁通量利用了密度變化的事實(shí)。但只有當(dāng)被測(cè)物體與金屬接觸時(shí)才能使用，且被測(cè)物體不是金屬。

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4.渦流膜厚計(jì)

渦流膜厚計(jì)利用線圈產(chǎn)生的磁通量的變化來(lái)測(cè)量被測(cè)物體的厚度。通電的線圈周圍會(huì)產(chǎn)生磁通，當(dāng)線圈靠近被測(cè)量物時(shí)，磁通會(huì)根據(jù)被測(cè)量物的厚度而變化。通過(guò)檢測(cè)該磁通量的變化來(lái)測(cè)量被測(cè)物體的厚度。

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5、超聲波膜厚計(jì)

超聲波膜厚計(jì)是利用超聲波反射的膜厚計(jì)。當(dāng)超聲波從被測(cè)物體的表面發(fā)射時(shí)，它會(huì)穿過(guò)物體的內(nèi)部并被背面反射。可以根據(jù)反射發(fā)生所需的時(shí)間來(lái)測(cè)量厚度。

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例如，當(dāng)測(cè)量玻璃等透明薄膜的厚度時(shí)，使用使用寬帶光的光譜干涉膜厚計(jì)或使用紅外光的紅外膜厚計(jì)。另一方面，這些類型的膜厚計(jì)不能用于不透光的材料，例如金屬。

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測(cè)量金屬電鍍等薄膜時(shí)，使用利用磁通量變化的電磁式膜厚計(jì)和利用渦流的渦流式膜厚計(jì)。此外，如果難以觸摸被測(cè)物體，也可使用超聲波涂層測(cè)厚儀等非接觸式涂層測(cè)厚儀。